勻膠機(jī)是在高速旋轉(zhuǎn)的基片上，滴注各類(lèi)膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上的設(shè)備，膜的厚度取決于該機(jī)的轉(zhuǎn)速和溶膠的黏度。采用觸摸屏設(shè)置可用于直徑28-200mm晶片涂覆，儀器配有“安全開(kāi)關(guān)按鈕”轉(zhuǎn)速范圍300-8500RPM，可選無(wú)油或有油真空泵等配件。
近年來(lái)的發(fā)展趨勢(shì)是在自動(dòng)工作方式的勻膠機(jī)中加入預(yù)涂增粘劑(HMDS)的冷板和熱板工藝模塊，以增強(qiáng)光刻膠和晶片的附著力。為了提高生產(chǎn)率，國(guó)外已經(jīng)研制出多種工藝模塊任意組合的積木式結(jié)構(gòu)，有的還帶有膠膜自動(dòng)測(cè)量和監(jiān)控裝置。
應(yīng)用：
該設(shè)備主要用于晶片涂光刻膠，有自動(dòng)、手動(dòng)和半自動(dòng)三種工作方式。
從其原理來(lái)說(shuō)它有以下兩個(gè)特點(diǎn)：
(1)旋轉(zhuǎn)速度
轉(zhuǎn)速的快慢和控制精度直接關(guān)系到旋涂層的厚度控制和膜層均勻性。如果標(biāo)示的轉(zhuǎn)速和電機(jī)的實(shí)際轉(zhuǎn)速誤差很大，對(duì)于要求精密涂覆的科研人員來(lái)說(shuō)是無(wú)法獲得準(zhǔn)確的實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)的。目前轉(zhuǎn)速控制方面有國(guó)際認(rèn)定標(biāo)準(zhǔn)，如美國(guó)NIST標(biāo)準(zhǔn)等。
(2)真空吸附系統(tǒng)
真空泵一般采用無(wú)油泵，即通常說(shuō)的干泵，因?yàn)槿魏蔚挠臀鄱伎赡芏氯婵展艿?，如果真空吸附力降低，?huì)導(dǎo)致基片吸附不住而產(chǎn)生"飛片"的情況，還會(huì)讓滴的膠液不慎進(jìn)入真空管道系統(tǒng)造成*堵塞。有的勻膠機(jī)通過(guò)聯(lián)動(dòng)機(jī)制，當(dāng)真空吸附力不夠時(shí)不會(huì)開(kāi)始旋轉(zhuǎn)。這樣可有效避免滴的膠液不慎進(jìn)入真空管道系統(tǒng)。
總的來(lái)說(shuō)，他們?cè)矶际且粯拥模丛诟咚傩D(zhuǎn)的基片上，滴注各類(lèi)膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同，也和旋轉(zhuǎn)速度及時(shí)間有關(guān)。
